产品采购：KrF 正性光刻胶

产品名称：KrF 正性光刻胶
CAS号：无
需求量：暂无信息
其他信息：目标膜厚：约几百纳米至 500 纳米
目标图案：几百纳米量级的周期性结构（用于干涉光刻）
衬底/涂层表面：铬膜、硅、玻璃、蓝宝石等

1.灵敏度和对比度：虽然没有具体要求，但由于我们计划使用 266 纳米激光器，因此优先考虑对 266 纳米波长具有较高灵敏度的光刻胶。
2.膜厚和轮廓：我们希望膜尽可能薄，但计划在后续步骤中考虑其作为掩模的抗蚀刻性能，以确定最佳厚度。我们希望侧壁尽可能平整。
3.显影液：我们目前假设使用 TMAH 溶液，但如果适用，其他推荐的显影液也可以接受。

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